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HMDS蒸鍍真空烤箱,芯片HMDS蒸鍍烤箱 真空烘箱

HMDS蒸鍍真空烤箱,芯片HMDS蒸鍍烤箱 真空烘箱

簡(jiǎn)要描述:

HMDS蒸鍍真空烤箱,芯片HMDS蒸鍍烤箱HMDS的HMDS蒸鍍就是利用惰性氣體(例如氮?dú)猓е鳫MDS的蒸汽通過(guò)芯片表面,而在晶面上形成一層薄膜

HMDS蒸鍍真空烤箱,芯片HMDS蒸鍍烤箱的作用

       HMDS原為化學(xué)藥品HexaMethylDiSilazane的縮寫(xiě),在此則是指芯片在上光阻前的一個(gè)預(yù)先處理步驟。 HMDS蒸鍍就是利用惰性氣體(例如氮?dú)?帶著HMDS的蒸汽通過(guò)芯片表面,而在晶面上形成一層薄膜。

其目的在于:消除芯片表面的微量水份,防止空氣中的水汽再次吸附于晶面,增加光阻劑(尤其是正光阻)對(duì)于晶面的附著能力,進(jìn)而減少在而后之顯影過(guò)程中產(chǎn)生光阻掀起,或是在蝕刻時(shí)產(chǎn)了”Undercutting”的現(xiàn)象。

HMDS蒸鍍真空烤箱,芯片HMDS蒸鍍烤箱主要技術(shù)參數(shù)

工作室尺寸:450×450×450,550×650×550(mm),可自定義 

材質(zhì):外箱材質(zhì)采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑,內(nèi)箱采用316L 醫(yī)用級(jí)不銹鋼

溫度范圍:RT+10-250℃

溫度分辨率:0.1℃

溫度波動(dòng)度:0.5℃

真空度:≤133pa(1torr)

潔凈度:class 100,設(shè)備采用無(wú)塵材料,適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境

控制儀表:人機(jī)界面

HMDS控制:HMDS充液量可控制

真空泵:旋片油泵/進(jìn)口干泵(全新)

保護(hù)裝置:漏電保護(hù),超溫保護(hù),HMDS低液位報(bào)警等

特點(diǎn)

預(yù)處理性能更好,處理更加均勻,效率高,更加節(jié)省藥液,更加環(huán)保,

安全性高(低液報(bào)警裝置,自動(dòng)吸取HMDS,智能型的程式設(shè)定,一鍵完成作業(yè))。

 

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