抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機  氣相沉積系統(tǒng)

    硅烷偶聯(lián)劑（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三濾硅烷等）作為一類重要的有機硅化合物，在材料表面改性、復合材料增強、涂層制備等眾多領域有著廣泛應用。

應用領域： 半導體：晶圓光刻前疏水性處理、掩膜板疏水性處理、LED芯片工藝、藍寶石、貴金屬、硅片、磷化銦lnP、砷化鎵GaAs、鈮酸鋰LiNbO?、硫化鋅ZnS、掩膜版、玻璃、石英片、藍寶石、晶圓、碳化硅等第三代、第四代半導體材料等。平板顯示器：用于大規(guī)模生產(chǎn)高性能顯示面板。 太陽能電池：提高薄膜太陽能電池的生產(chǎn)效率和性能。航空航天新材料：陶瓷纖維板材疏水性處理。手機平板：抗指紋、防水處理等。納米壓?。杭{米壓印脫模階段。

抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機  氣相沉積系統(tǒng)性能

內部容積： 20-5000L

材質： 外箱冷軋板烤漆或優(yōu)質SUS#304不銹鋼，內腔采用316L不銹鋼

控制方式：人機界面+PLC

溫度范圍 ：RT-450℃

波動度 ：≤±0.5

真空度： ≤1torr

電源及總功率 ：220V/380V   

真空泵 ：無油泵

半導體設備廠商上海雋思儀器，硅烷氣相沉積設備、精密熱板、HMDS預處理系統(tǒng)烘箱、智能型HMDS真空預處理系統(tǒng)烘箱、MSD超低濕烘箱、無塵烘箱、潔凈烘箱，氮氣烘箱、無氧烘箱、無塵無氧烘箱、真空烘箱、真空儲存柜、超低溫試驗箱、超低濕試驗箱等環(huán)境可靠性設備。