HMDS(六甲基二硅氮烷)表面處理的應(yīng)用

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理的工藝是勻膠前襯底“增附"處理。在光刻中，通常會(huì)用到一些例如藍(lán)寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底，這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想，這會(huì)導(dǎo)致后續(xù)的光刻顯影環(huán)節(jié)出現(xiàn)“裂紋"甚至是漂膠等問(wèn)題。因此必須通過(guò)工藝手段改善，這個(gè)步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏，也稱為HMDS預(yù)處理。

HMDS(六甲基二硅氮烷)表面處理設(shè)備

  JS-HMDS90 是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一道工藝，同一個(gè)容器中進(jìn)行，晶片在箱內(nèi)先經(jīng)過(guò)100℃-200℃的去水烘烤，再進(jìn)行HMDS處理，不需要從箱內(nèi)傳出，而接觸到空氣，晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低，所以有更好的處理效果。

  HMDS(六甲基二硅氮烷)表面處理設(shè)備將HMDS氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。

HMDS藥液低液位報(bào)警：

自動(dòng)吸取HMDS：

可自動(dòng)添加HMDS：

HMDS藥液泄漏報(bào)警：

HMDS氣體管路加熱系統(tǒng)：

參數(shù)記錄功能：

溫度與程序互鎖功能：

容積大?。?50*350*350/450*450*450（mm）可定制

溫度范圍：RT+10-250℃

真空度：≤133pa（1torr）       

控制系統(tǒng);人機(jī)界面+PLC

擱板層數(shù):2層

   無(wú)氧烘箱，真空無(wú)氧烘箱，無(wú)塵烘箱，HMDS烘箱，硅烷蒸鍍機(jī)，無(wú)塵無(wú)氧烘箱，氮?dú)夂嫦?，鼓風(fēng)真空烘箱，超低溫試驗(yàn)箱，快溫變?cè)囼?yàn)箱，恒溫恒濕試驗(yàn)箱，高低溫沖擊試驗(yàn)箱等設(shè)備，以及非標(biāo)定制。---上海雋思儀器專業(yè)生產(chǎn)/服務(wù)！