光刻加工中涂布后，所得的抗蝕劑膜將包含20-40%重量的溶劑。后涂覆烘烤工藝，也稱為軟烘烤或預烘烤，涉及在旋涂之后通過除去該過量溶劑來干燥光致抗蝕劑。減少溶劑含量的主要原因是使抗蝕劑膜穩(wěn)定。

    在室溫下，光刻加工未烘烤的光致抗蝕劑膜將通過蒸發(fā)而損失溶劑，從而隨時間改變膜的性能。通過烘烤抗蝕劑，去除了大部分溶劑，并且該膜在室溫下變得穩(wěn)定。從光致抗蝕劑膜上去除溶劑有四個主要效果:(1)減小膜的厚度;(2)曝光后烘烤并改變顯影性能;(3)改善粘合性;(4)膜的粘性降低因此不易受到微粒污染的影響。

氮氣烘箱，百級潔凈烘箱用途:

    潔凈烘箱，百級無塵烘箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于IC封裝、光刻膠固化、銀膠固化、電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。

氮氣烘箱，百級潔凈烘箱技術(shù)參數(shù)：

無塵等級：Class100;     

溫度范圍：RT～200/450℃；      

工作尺寸（mm）：

450×450×450

500×500×500

600×700×800（可定制）        

氮氣烘箱，百級潔凈烘箱可擴展功能：

氧濃度檢測，無塵無氧烘箱

真空無氧烘箱

智能聯(lián)網(wǎng)功能，MES等工業(yè)自動化軟件

掃碼槍，掃碼溯源，一鍵讀取

自動門控，上位機程控，機械手搬運產(chǎn)品