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前烘潔凈烘箱，軟烘充氮烘箱涂膠后，晶片須經過一次烘烤，稱之軟烘或前烘。工藝作用是除去膠中大部分溶劑并使膠的曝光特性固定。通常，軟烘時間越短或溫度越低會使得膠在顯影劑中的溶解速率增加且感光度更高。

晶圓潔凈烘箱，光刻硬烘烤箱潔凈度100級的潔凈熱處理HEPA過濾器與前出風型水平層流循環(huán)方式實現(xiàn)并保證箱內的溫度分布的均勻性與100級潔凈度。Z小限度控制風速距離。

無氧烘箱、防氧化烤箱無氧烘箱，在工作時，工作室內充滿了惰性氣體CO2,N2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業(yè)中的用途：IC包裝，LCD,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板。

無氧烤箱，厭氧烘箱廣泛用于航天、石油、化工、電子、通訊等科研及生產單位做材料、零件、設備等的高溫潔凈和無氧干燥及老化試驗。

無塵潔凈烤箱，精密潔凈烘箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實驗室等生產及科研部門

光刻膠高溫固化烤箱，半導體高溫烤箱適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業(yè)。應用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，箱內空氣封閉自循環(huán)，經耐高溫高效空氣過濾器（100級）反復過濾，使烘箱工作室內處于無塵狀態(tài)。無塵烤箱工作室為不銹鋼結構。

HMDS真空烤箱，全自動HMDS預處理系統(tǒng)通過對烤箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。